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中国光刻机与世界水平差距有多大?快速浏览全球光刻机市场的最新分析 如松新浪博客

刻机,光刻,中国,差距,水平,快速,浏览,分析,全球,世界,市场,最新时间:2021-03-09 22:55:21浏览:144
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根据芯片洞察的数据,2020年全球将有大约580台用于集成电路、面板和发光二极管的光刻机发货,比2019年多30台。其中,用于集成电路制造的光刻机约410台出货;运送了大约170台用于面板和发光二极管的光刻机。

三大出货量

2020年,ASML、尼康、佳能前三的集成电路光刻机将出货413台,比2019年的359台多54台,增长15%。

根据EUV、ArFi和ArF的出货量,2020年共有143款高端车型出货量,比2019年的154款下降了7%。其中,ASML出货量121台,占市场85%,比2019年增长1个百分点;尼康出货22台,占市场15%,比2019年低1个百分点。

EUV依然是ASML的领头羊,市场份额100%;ASML在ArFi的市场份额高达86%,比2019年低2个百分点;ASML在ArF中的市场份额为67%,比2019年增加了4个百分点;ASML在韩元方面也占有71%的市场份额,比2019年增加了8个百分点;ASML在一线也占有27%的市场份额。

总营收方面,2020年ASML、尼康、佳能三大光刻机总营收达到988亿元,较2019年小幅增长4.6%。收入占比方面,ASML占比79%,比2019年提高5个百分点。2020年,ASML各种光刻机出货量将增长13%,高端机EUV出货量将增长5台,整体营收增长10%以上。

2020年ASML光刻机收入约780亿元,比2019年增长10.8%。

2020年,ASML共发运了258台光刻机,比2019年的229台多29台,增长13%。其中,EUV光刻机出货31台,比2019年增加5台;ArFi光刻机出货68台,比2019年减少14台;ArF光刻机出货22台,与2018年持平;发运103台KrF光刻机,比2019年增加38台;一线光刻机出货34台,与2019年持平。

2020年,ASML EUV光刻机的收入将达到350亿元人民币,占光刻机总收入的45%,比2019年增加133亿元人民币。2020年,单个EUV的平均售价将超过11亿元人民币,比2019年高出35%。自2011年第一台EUV机器售出以来,2020年第四季度,EUV售出了100多台机器,达到101台。而且EUV机器的单价越来越高。据悉,2020年第四季度,EUV 6台机器总数达到86亿元人民币,单台机器价格超过14亿元人民币。

2020年,来自中国的光刻机收入占18%,超过140亿元人民币,表明至少有30台光刻机被转移到mainland China的晶圆厂。

2020年尼康光刻机业务收入约120亿元人民币,较2019年下降23%。

2020年,尼康集成电路光刻机出货33台,比2019年减少13台。其中ArFi光刻机出货11台,与2019年持平;ArF光刻机出货11台,比2019年减少2台;发运两台KrF光刻机,比2017年少两台;发运了9台i-line光刻机,比2019年减少了9台。

2020年,尼康发运了26台新机器和7台翻新机器。

2020年,20个尼康面板(FPD)将由光刻机装运,比2019年下降50%。然而,用于面板的光刻机主要由10.5代线光刻机装运,总共装运了13台。

2020年佳能光刻机营收约88亿元,比2019年低7%左右。

2020年,佳能半导体将出货两款低端机,i-line和KrF。光刻机出货量将达到122台,比2019年增加38台,增幅32%。i-line机器是出货的主要力量,得益于化合物半导体和板级封装的发展。

2020年7月,佳能推出了用于板级封装的I线步进光刻机FPA-8000iW,可对应尺寸高达515×510mm的大型方形基板的容量。据悉,佳能自主研发的投影光学系统可实现52×68mm的宽视场曝光,在板级基板封装光刻机中达到1.0微米的高标准分辨率,将极大推动追求高速加工的AI芯片和HPCR的封装。

佳能还将于2021年3月出货新的I-line步进机“FPA-3030i5a”,可加工碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)等硅基和化合物半导体晶圆,从而实现各种半导体器件的制造。。

FPA-3030iWa光刻机于2020年2月正式出货。使用的投影镜头广角52 mm x52 mm,NA可以从0.16调整到0.24。新设备可以自由选择晶圆尺寸在2英寸到8英寸的处理系统,方便支持各种化合物半导体晶圆,可用于汽车电源器件、5G相关通信器件、物联网相关器件(如MEMS、传感器等)的制造过程。)随着未来需求的增加。

2020年佳能面板(FPD)出货32台光刻机,比2019年出货少18台,下降36%。

从其他公司装运

上海微电子SMEE上海微电子设备(集团)有限公司主要应用于集成电路前端、高级封装、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造领域。2020年出货量预计60+台,比2019年增加10台左右,主要以高级封装和LED为主,FPD领域也有出货量。

是的,我国正在共同努力解决193纳米DUV光刻机和浸没式光刻机的问题,先进光刻机的进步相当快。对于网上传言上海微电子将于2021年交付28 nm光刻机,核心思想研究院认为不要乐观,但不要悲观。传递成功是好事,但不能按时传递给媒体就不要喷了。

SUSS德国SUSS光刻机主要用于半导体集成电路、MEMS、LED的高级封装。2020年光刻机营收约7.8亿元,比2019年高10%。

veeco 2020年用于封装、MEMS、LED的先进光刻机收入约4亿元,较2019年增长30%。销售单元的估计数量少于30个。

EVG的光刻设备主要用于高级包装、面板等行业。当然,该公司也销售对齐器。

ASML·EUV的进步

自2018年以来,ASML一直在加速将EUV技术引入大规模生产;第二,更高NA的EUV光刻系统可以将EUV光源以更大的角度投射到晶片上,从而提高分辨率并实现更小的特征尺寸。

2020年10月,ASML宣布了新TWINSCAN NXE: 3600D的参数和规格。NXE: 3600D的覆盖精度提高到1.1毫米,曝光速度为30兆焦耳/平方厘米,每小时曝光160片晶圆。而NXE:3400℃的覆盖精度为1.5纳米,曝光速度为20mJ/cm2,每小时可曝光170片晶圆。早期的NXE: 3400B的套准精度为2纳米,曝光速度为20mJ/cm2,每小时可曝光125片晶圆。但是,NXE: 3600D最早会在2021年第二季度发货。

自2011年第一台EUV机器售出以来,2020年第四季度共发运了101台EUV机器。而且EUV机器的单价越来越高。据悉,2020年第四季度,EUV 6台机器总数达到86亿元人民币,单台机器价格超过14亿元人民币。

预计2022年将推出0.55 NA的新型EXE:5000样机,可用于1 nm生产。根据之前的情况推测,实际生产模式可能要等到2024年。当然,0.55 NA镜头的开发进度也会影响新机型的出货时间。

2020年,ASML发运了31台EUV光刻机,没有达到预期的35台,这可能与2020年新冠肺炎疫情有关。

经典发展

对于7纳米以下的节点,ASML专注于EUV,并向客户销售ArF浸没系统。ArF浸没系统可以与各种曝光工艺结合使用,将DUV光刻技术扩展到7纳米以下;而尼康只推ArF沉浸系统。

佳能押注纳米压印光刻(NIL),源自佳能2014年收购的分子印记。

最新的纳米压印光刻(NIL)参数好,套印精度2.4nm/3.2nm,每小时可曝光100多片晶圆。

据悉,纳米压印光刻(NIL)已经达到3D NAND的要求,日本3D NAND厂商Kioxia已经开始在96层3D NAND中使用这项技术。除了3D NAND,还能满足1纳米DRAM的生产要求。

(文章来源于核心思想,作者赵元璋,仅供业内人士学习)


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